Formules de calcul d'épaisseur (FPL, Version 9)

Navigation:  L'application Client > Les écrans et boîtes de dialogue > Le menu <Edition> >

Formules de calcul d'épaisseur (FPL, Version 9)

Previous pageReturn to chapter overviewNext page

En sélectionnant le menu { Edition ¦ Formules de calcul d'épaisseur } , la fenêtre suivante s'affiche.

 

FormuledeCalcul

 

La formule de calcul d’épaisseur de déposition d'un bain électrolytique est la suivante:

 

t        =         ( ( S1-S2) * d * 10) / (eq * D * R ) * K1 / 1000 ;

 

t        =        Temps d'électrolyse en heure.

S1        =        Épaisseur de dépose en microns

S2        =        Épaisseur de correction en microns.

d        =        Poids spécifique Cu = 8.92 (grammes par cm3)  SnPb = 8.42

eq        =        Equivalent électrolytique   Cu 1.185  SnPb 2.7

D        =        Densité de courant en ampère par dm2

R        =        Rendement

K1        =        Facteur de correction linéaire.

 

 

Métal

Symbole

d

eq

R

Argent

Ag

10.5

4.022

1.0

Cadmium

Cd

8.6

2.097

0.9

Chrome

Cr

7.1

0.323

0.18

Cuivre

Cu

8.9

1.184

1.0

Cobalt

Co

8.9

1.1

 

Etain

Sn

7.3

2.114

0.8

Nickel

Ni

8.9

1.095

0.97

Or

Au

19.3

7.347

 

Palladium

Pd

11.9

1.987

 

Platine

Pt

21.4

3.638

 

Plomb

Pb

11.3

3.865

 

Rhodium

Rh

12.4

1.279

 

Zinc

Zn

7.1

1.22

0.95

 

La colonne S2/µmn correspond également à la vitesse de déposition d'un bain de métal non électrolytique. Elle correspond alors à un nombre de microns à la minute.